Institutional Repository
Technical University of Crete
EN  |  EL

Search

Browse

My Space

Electrical characterization of Gallium Nitride High Electron Mobility Transistors (GaN HEMTs)

Koumpias Leonidas

Simple record


URIhttp://purl.tuc.gr/dl/dias/2B32A595-10A7-4B16-A9F6-97DEA741E9CE-
Identifierhttps://doi.org/10.26233/heallink.tuc.104261-
Languageel-
Extent99 σελίδεςel
TitleΗλεκτρικός χαρακτηρισμός τρανζίστορ υψηλής κινητικότητας ηλεκτρονίων Νιτριδίου του Γαλλίου (GaN HEMTs)el
TitleElectrical characterization of Gallium Nitride High Electron Mobility Transistors (GaN HEMTs)en
CreatorKoumpias Leonidasen
CreatorΚουμπιας Λεωνιδαςel
Contributor [Thesis Supervisor]Bucher Matthiasen
Contributor [Thesis Supervisor]Bucher Matthiasel
Contributor [Committee Member]Balas Costasen
Contributor [Committee Member]Μπαλας Κωσταςel
Contributor [Committee Member]Fasarakis Nikolaosen
Contributor [Committee Member]Φασαρακης Νικολαοςel
PublisherΠολυτεχνείο Κρήτηςel
PublisherTechnical University of Creteen
Academic UnitΠολυτεχνείο Κρήτης::Σχολή Ηλεκτρολόγων Μηχανικών και Μηχανικών Υπολογιστώνel
Content SummaryΟι αυξανόμενες απαιτήσεις των σύγχρονων ηλεκτρονικών εφαρμογών για τρανζίστορ υψηλής απόδοσης ισχύος και λειτουργίας σε υψηλές συχνότητες, σε συνδυασμό με την ανάγκη για μικρό μέγεθος, υψηλή ενεργειακή απόδοση καθώς και λειτουργία σε υψηλή θερμοκρασία, έχουν οδηγήσει σε αυξανόμενη ζήτηση για τρανζίστορ σύνθετων ημιαγωγών υψηλής κινητικότητας ηλεκτρονίων, όπως τα τα τρανζίστορ GaN HEMT (High Electron Mobility Transistor). Στην παρούσα διπλωματική εργασία πραγματοποιείται σύντομη ανάλυση της δομής και λειτουργίας της διάταξης GaN HEMT, καθώς και μελέτη του ευρέος πεδίου εφαρμογών της, όπως ενισχυτές ισχύος RF (RF PAs), μετατροπείς ισχύος (inverters), ραντάρ κ.ά. Βασικός στόχος της εργασίας είναι ο πλήρης πειραματικός χαρακτηρισμός διατάξεων GaN HEMT, τα οποία έχουν αναπτηχθεί από το Ινστιτούτο Ηλεκτρονικής Δομής και Λέϊζερ του ΙΤΕ (IESL-FORTH) στο Ηράκλειο. Στο Εργαστήριο Ηλεκτρονικής της Σχολής ΗΜΜΥ πραγματοποιήθηκε εκστρατεία on-wafer μετρήσεων ακριβείας τύπου ρεύμα-τάσης (IV) και χωρητικότητας-τάσης (CV) , σε ευρείο φάσμα θερμοκρασίας. Ο χαρακτηρισμός αυτός καθιστά δυνατή την μοντελοποίησή της μέσω του μοντέλου EPFL HEMT. Κατόπιν τούτου, παρουσιάζονται οι μέθοδοι προσδιορισμού των παραμέτρων μοντέλου φορτίων των HEMT, όπως η χωρητικότητα φραγμού Cb, η τάση κατωφλίου VTH, ο παράγων κλίσης n, το ειδικό ρεύμα τεχνολογίας Ispec και η κινητικότητα μ. Επιπρόσθετα, πραγματοποιείται στατιστική ανάλυση της συμπεριφοράς όμοιων HEMT σε ένα wafer, η οποία οδηγεί στην παροχή αξιόπιστων στατιστικών των παραμέτρων αυτών. Συμπερασματικά, ο χαρακτηρισμός αυτός συμβάλλει στην μελλοντική εμπορική αξιοποίηση της τεχνολογίας GaN HEMT του ΙΤΕ.el
Content SummaryThe increasing demands of modern electronic applications for high-performance power transistors operating at high frequency while maintaining compact size and high energy efficiency as well as high operating temperatures, have led to a growing interest in compound semiconductor devices with high electron mobility, such as GaN HEMTs (High Electron Mobility Transistors). This thesis presents a brief analysis of the structure and operation of the GaN HEMT device, as well as an overview of its wide range of applications, including RF power amplifiers (RF PAs), power inverters, high-speed switches, radar systems, and more. The primary objective of the study is the detailed characterization of GaN HEMT devices, produced at the Institute of Electronic Structure and Laser (IESL) at FORTH in Heraklion, Crete. An on-wafer characterization campaign is carried out at the Electronics Laboratory of the School of ECE at TUC, with precision measurements of current-voltage (IV) as well as capacitance-voltage (CV) types, over a large temperature range. This characterization enables the modeling of the devices based on the EPFL-HEMT model. Following this, advanced parameter extraction methods are presented for the charge-based HEMT model, such as the barrier capacitance Cb, the threshold voltage VTH, the slope factor n, the technology current I0, and the mobility μ. Furthermore, a statistical analysis is conducted on the behavior of identical HEMTs across a single wafer, providing reliable statistical data for the above key parameters. In conclusion, this characterization contributes to the potential future commercial exploitation of FORTH’s GaN HEMT technology.en
Type of ItemΔιπλωματική Εργασίαel
Type of ItemDiploma Worken
Licensehttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/en
Date of Item2025-08-01-
Date of Publication2025-
SubjectGaN HEMTen
SubjectTransistor characterizationen
SubjectElectronicsel
Bibliographic CitationΛεωνίδας Κουμπιάς, "Ηλεκτρικός χαρακτηρισμός τρανζίστορ υψηλής κινητικότητας ηλεκτρονίων Νιτριδίου του Γαλλίου (GaN HEMTs)", Διπλωματική Εργασία, Σχολή Ηλεκτρολόγων Μηχανικών και Μηχανικών Υπολογιστών, Πολυτεχνείο Κρήτης, Χανιά, Ελλάς, 2025el
Bibliographic CitationLeonidas Koumpias, "Electrical characterization of Gallium Nitride High Electron Mobility Transistors (GaN HEMTs)", Diploma Work, School of Electrical and Computer Engineering, Technical University of Crete, Chania, Greece, 2025en

Available Files

Services

Statistics